KRi 射頻離子源應用于紅外截止濾光片 IRCF 工藝
上海伯東某客戶為精密光學鍍膜產(chǎn)品生產(chǎn)商, 生產(chǎn)過程中需在白玻璃上進行鍍膜. 由于國產(chǎn)鍍膜設備在射頻和光控性能方面的限制, 鍍制過程易出現(xiàn)溫漂現(xiàn)象, 材料折射率不高, 品質(zhì)無法保證; 且工藝上需要加熱, 這大大增加了鍍膜時間. 經(jīng)過伯東推薦選用國產(chǎn)鍍膜機加裝美國進口 KRi 射頻離子源進行輔助鍍膜, 保證工藝效果, 提高生產(chǎn)效率.
紅外截止濾光片是一種用于過濾紅外波段的濾鏡, IRCF 利用精密光學鍍膜技術在白玻璃, 藍玻璃或樹脂片等光學基片上交替鍍上高低折射率的光學膜, 其可通過實現(xiàn)近紅外光區(qū)截止以消除紅外光對成像的影響, 是高性能攝像頭的必備組件, 工藝上對所用的鍍膜設備有著極高的要求.
KRi 射頻離子源應用于紅外截止濾光片 IRCF 工藝
應用**域: 光學鏡頭
薄膜工藝: IR-CUT
產(chǎn)品類別: 紅外截止濾光片
應用方向: 國產(chǎn)鍍膜機加裝 KRi 射頻離子源進行離子清洗和輔助沉積, 實現(xiàn) IR-CUT 單面鍍膜
美國 KRi 考夫曼品**射頻離子源通過輔助鍍膜在白玻璃 IRCF 上進行工藝升級, 解決溫漂問題, 上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.
美國 KRi RFICP 射頻離子源技術參數(shù)：
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型號
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RFICP 40
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RFICP 100
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RFICP 140
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RFICP 220
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RFICP 380
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Discharge 陽極
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RF 射頻
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RF 射頻
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RF 射頻
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RF 射頻
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RF 射頻
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離子束流
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>100 mA
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>350 mA
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>600 mA
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>800 mA
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>1500 mA
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離子動能
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100-1200 V
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100-1200 V
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100-1200 V
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100-1200 V
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100-1200 V
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柵極直徑
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4 cm Φ
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10 cm Φ
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14 cm Φ
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20 cm Φ
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30 cm Φ
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離子束
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聚焦, 平行, 散射
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流量
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3-10 sccm
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5-30 sccm
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5-30 sccm
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10-40 sccm
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15-50 sccm
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通氣
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Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
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典型壓力
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< 0.5m Torr
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< 0.5m Torr
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< 0.5m Torr
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< 0.5m Torr
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< 0.5m Torr
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長度
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12.7 cm
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23.5 cm
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24.6 cm
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30 cm
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39 cm
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直徑
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13.5 cm
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19.1 cm
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24.6 cm
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41 cm
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59 cm
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中和器
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LFN 2000
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上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD **域.
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